マスクブランクおよび階調マスク

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山下昭彦 , 岸本達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007044501
Publication number (International publication number)：2007256940
Application date： Feb. 23, 2007
Publication date： Oct. 04, 2007
Summary：

【課題】ウェットエッチングした場合に、膜へのダメージが少なく、かつ、容易にエッチング可能な多層膜を有するマスクブランクおよび階調マスクを提供する。【解決手段】透明基板11と、上記透明基板上に形成され、湿式エッチングされうる金属または金属化合物からなる膜が少なくとも2層積層された多層膜15(12、13)とを有し、上記多層膜内で接触する2層の膜は同一のエッチャントを用いて湿式エッチングされうるものであり、上記接触する2層の膜では上層の膜が下層の膜に対して電気化学的に卑であることを特徴とするマスクブランクを提供する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

透明基板と、前記透明基板上に形成され、湿式エッチングされうる金属または金属化合物からなる膜が少なくとも2層積層された多層膜とを有し、前記多層膜内で接触する2層の膜は同一のエッチャントを用いて湿式エッチングされうるものであり、前記接触する2層の膜では上層の膜が下層の膜に対して電気化学的に卑であることを特徴とするマスクブランク。

IPC (1)：

G03F 1/08

FI (1)：

G03F1/08 K

F-Term (2)：

2H095BB15 , 2H095BC11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

階調マスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-049837 Applicant：日本石油株式会社
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-267552 Applicant：大日本印刷株式会社
グレートーンマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-386050 Applicant：ホーヤ株式会社

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Cited by examiner (11)

グレートーンマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-386050 Applicant：ホーヤ株式会社
特開平2-039153
グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-088092 Applicant：リコー光学株式会社

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