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J-GLOBAL ID：200903025288928205

階調フォトマスクおよびその製造方法

Inventor：
國吉 正視

About 國吉 正視


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 金山 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004195602
Publication number (International publication number)：2006018001
Application date： Jul. 01, 2004
Publication date： Jan. 19, 2006
Summary：
【課題】リソグラフィ工程を減少するためのグレートーンマスクにおいて、専用のフォトマスクブランク材料を必要とせず、また、エッチング設備やエッチング工程数を複数準備する必要が無く、製造コストが低減された高品質なグレートーンマスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】透明基板上に所望のパターンを有するフォトマスクにおいて、前記パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、前記透明基板上に、前記遮光膜と前記半透明膜とがこの順に積層されて存在する遮光領域、前記遮光膜のみが存在する遮光領域、前記半透明膜のみが存在する半透明領域、および前記遮光膜と前記半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在することを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
透明基板上に所望のパターンを有するフォトマスクにおいて、 前記パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、 前記透明基板上に、前記遮光膜と前記半透明膜とがこの順に積層されて存在する遮光領域、前記遮光膜のみが存在する遮光領域、前記半透明膜のみが存在する半透明領域、および前記遮光膜と前記半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在することを特徴とするフォトマスク。
IPC (3)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F1/08 K ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 502P
F-Term (4)：
2H095BB31 ,  2H095BC11 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (15)
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Cited by examiner (10)
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