プラズマ発生装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：平野玄陽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002069836
Publication number (International publication number)：2003272896
Application date： Mar. 14, 2002
Publication date： Sep. 26, 2003
Summary：

【要約】【課題】簡単な構造でコストアップを招くことなく、プラズマの発生量を増大できるようにする。【解決手段】反応管2内にガスを導入し、このガスに高周波電圧を印加してプラズマを発生させるプラズマ発生装置であって、上記のガスを反応管2に導く導入管1を反応管2内に鉛直方向に設ける。この導入管1の下端1aに、円筒形の電極4を導入管1と同心状に且つ導入管1と連通状に設ける。この円筒形の電極4を、網目状に形成する。

Claim (excerpt)：

反応管内にガスが導入され、このガスに高周波電圧を印加してプラズマを発生させるプラズマ発生装置であって、上記のガスを反応管に導く導入管が反応管内に鉛直方向に設けられ、この導入管の下端に、円筒形の電極が導入管と同心状に且つ導入管と連通状に設けられ、この円筒形の電極が網目状に形成されていることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 , B01J 19/08 , C23C 16/509 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H05H 1/24

FI (6)：

H05H 1/46 M , B01J 19/08 H , C23C 16/509 , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , H05H 1/24

F-Term (36)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4G075EC21 , 4G075FA03 , 4G075FA14 , 4G075FB02 , 4G075FC06 , 4K030BA29 , 4K030BB03 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA03 , 4K030KA14 , 4K030KA15 , 4K030KA16 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 4K057DA16 , 4K057DB06 , 4K057DD01 , 4K057DM06 , 4K057DM08 , 4K057DM09 , 4K057DM10 , 5F045AA08 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045EB02 , 5F045EB06 , 5F045EH04 , 5F045EH05 , 5F045EH08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平2-250975
プラズマ放電による薄膜形成装置と同装置用シャワー電極の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-035572 Applicant：富士電機株式会社
特開昭63-230890

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