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J-GLOBAL ID：200903085427397727

プラズマ放電による薄膜形成装置と同装置用シャワー電極の製造方法

Inventor：
藤掛 伸二

About 藤掛 伸二


Applicant, Patent owner：
富士電機株式会社

About 富士電機株式会社


Agent (1)： 山口 巖 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000035572
Publication number (International publication number)：2001226776
Application date： Feb. 14, 2000
Publication date： Aug. 21, 2001
Summary：
【要約】【課題】 連続成膜時間を極力長くできる長寿命のシャワー電極や防着板を備えた生産性の高いプラズマ放電による薄膜形成装置と同装置用シャワー電極の製造方法を提供する。【解決手段】 成膜室内の薄膜形成用基板の一側に接地電極を配設し、他側に電極本体と,ガス導入口と,ガス流通孔を有するシャワー電極とを備えた高周波電極を配設してなり、プラズマ放電によって前記基板主面に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記シャワー電極5のプラズマ放電側の表面を、第一の大きな凹凸面上に第二の小さな凹凸面を重畳させて,大小二つの平均表面粗さを有するものとする。
Claim (excerpt)：
成膜室内の薄膜形成用基板の一側に接地電極を配設し、他側に電極本体と,ガス導入口と,ガス流通孔を有するシャワー電極とを備えた高周波電極を配設してなり、プラズマ放電によって前記基板主面に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記シャワー電極のプラズマ放電側の表面を、第一の大きな凹凸面上に第二の小さな凹凸面を重畳させて,大小二つの平均表面粗さを有するものとすることを特徴とするプラズマ放電による薄膜形成装置。
IPC (4)：
C23C 16/54 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04
FI (4)：
C23C 16/54 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04 T
F-Term (20)：
4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030KA12 ,  4K030KA17 ,  4K030KA46 ,  5F045AA08 ,  5F045AC01 ,  5F045AD06 ,  5F045AE19 ,  5F045BB08 ,  5F045BB10 ,  5F045DP22 ,  5F045DQ15 ,  5F045EH05 ,  5F045EH08 ,  5F051BA11 ,  5F051BA14 ,  5F051CA15 ,  5F051CA22 ,  5F051CA23
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
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