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J-GLOBAL ID：200903058422125136

反射防止膜形成組成物

Inventor： 河口 和雄 ,  田中 正人 ,  下川 努
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001344388
Publication number (International publication number)：2002214777
Application date： Nov. 09, 2001
Publication date： Jul. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】 反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度及び精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造単位を有する重合体及び溶剤を含有する反射防止膜形成組成物。【化1】[式中、R1は水素原子以外の一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数である。ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2及びR3は独立に一価の原子もしくは基である。Xは二価の基である。]

Claim (excerpt)：

) 下記式(1):【化1】[式中、R1は水素原子以外の一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数である。ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2及びR3は独立に一価の原子もしくは基である。Xは二価の基である。]で示される構造単位を有する重合体及び溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。

IPC (7)：

G03F 7/004 506 ,  C08F 8/28 ,  C08F290/04 ,  C08F299/02 ,  G02B 1/11 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/004 506 ,  C08F 8/28 ,  C08F290/04 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/11 503 ,  G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 574

F-Term (40)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2K009AA04 ,  2K009BB04 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  4J027AH00 ,  4J027BA04 ,  4J027BA05 ,  4J027BA07 ,  4J027BA13 ,  4J027BA14 ,  4J027BA20 ,  4J027CC05 ,  4J027CD10 ,  4J100AB00Q ,  4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL10Q ,  4J100AL62Q ,  4J100AL75Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM03Q ,  4J100AM15Q ,  4J100AQ26Q ,  4J100AR09P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA14Q ,  4J100BB01Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100HA56 ,  5F046PA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 反射防止膜形成組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-325670   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 反射防止コーティング組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-000065   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション