Pat
J-GLOBAL ID：200903058522133209
蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板
Inventor：
,
,
,
,
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997043065
Publication number (International publication number)：1998092313
Application date： Feb. 27, 1997
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 凹凸を有する基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度でパターンを形成で蛍光体パターンの製造法、感光性エレメント、蛍光体パターン並びにこれを備えたプラズマディスプレイパネル用背面板を提供する。【解決手段】 (I)凹凸を有する基板上において蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に埋め込み層を配置した状態で、埋め込み層に圧力を加えて、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び埋め込み層を基板上に積層する工程、(II)埋め込み層を除去する工程、(III)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(IV)現像により活性光線を像的に照射した蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程及び(V)前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程を含む。
Claim (excerpt)：
(I)凹凸を有する基板上において(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に(B)埋め込み層を配置した状態で、(B)埋め込み層に圧力を加えて、(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び(B)埋め込み層を凹凸を有する基板上に積層する工程、(II)(B)埋め込み層を除去する工程、(III)(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(IV)現像により活性光線を像的に照射した(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程及び(V)前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造法。
IPC (5)：
H01J 9/227
, B32B 7/02 103
, C09K 11/08
, G03F 7/40 501
, G03F 7/004 505
H01J 9/227 C
, B32B 7/02 103
, C09K 11/08 J
, G03F 7/40 501
, G03F 7/004 505
Cited by examiner (3)
-
フォトレジストフィルム
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-088038
Applicant：日本合成化学工業株式会社
-
感光性エレメント、その積層方法及びレジスト形成方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-331071
Applicant：日立化成工業株式会社
-
プラズマディスプレイパネルの製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-055290
Applicant：富士通株式会社
Return to Previous Page
