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J-GLOBAL ID：200903058755732099

グラフトパターン材料、導電性パターン材料およびその製造方法

Inventor：
川村 浩一

About 川村 浩一

, 
佐藤 弘司

About 佐藤 弘司


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005105210
Publication number (International publication number)：2006286964
Application date： Mar. 31, 2005
Publication date： Oct. 19, 2006
Summary：
【課題】 基板との密着性に優れ、基板との界面における凹凸が小さく、高精細の導電性パターンの形成に有用なグラフトパターン材料、その製造方法、及び、該製造方法を適用した導電性パターン材料とその製造方法を提供する。【解決手段】 支持体上に、絶縁樹脂中に重合開始剤を含有してなる絶縁体層を設ける工程、該絶縁体層表面に直接結合したグラフトポリマーをパターン状に形成する工程、を順次有することを特徴とするグラフトパターン材料の製造方法。形成されたパターン状のグラフトポリマー上に導電性層を設けることで、導電性パターン材料を得ることができる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
支持体上に、絶縁樹脂中に重合開始剤を含有してなる絶縁体層を設ける工程、該絶縁体層表面に直接結合したグラフトポリマーをパターン状に形成する工程、を順次有することを特徴とするグラフトパターンの製造方法。
IPC (2)：
H05K 3/38 ,  H05K 3/18
FI (3)：
H05K3/38 A ,  H05K3/18 B ,  H05K3/18 E
F-Term (17)：
5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA17 ,  5E343AA18 ,  5E343AA38 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB34 ,  5E343BB44 ,  5E343BB48 ,  5E343CC71 ,  5E343CC73 ,  5E343CC76 ,  5E343DD33 ,  5E343EE37 ,  5E343ER04 ,  5E343GG02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特開昭58-196238号明細書
Cited by examiner (2)

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