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J-GLOBAL ID:200903058891166609

複合めっき材およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 浩一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005194718
Publication number (International publication number):2007009304
Application date: Jul. 04, 2005
Publication date: Jan. 18, 2007
Summary:
【課題】層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき層が最外層として形成され、摩擦係数が低く且つ接触抵抗値の経時劣化が少ない複合めっき材およびその製造方法を提供する。【解決手段】 複合めっき材の導体素材の上に下地めっき層として厚さ0.5〜2.0μmの錫めっき層が形成され、この錫めっき層上に、錫層中に炭素粒子を含有する複合材からなる厚さ0.5〜2.0μmの複合めっき層が最外層として形成されている。【選択図】図2
Claim (excerpt):
素材上に下地めっき層として厚さ0.5μm以上の錫めっき層が形成され、この錫めっき層上に、錫層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき層が形成されていることを特徴とする、複合めっき材。
IPC (4):
C25D 5/10 ,  C25D 7/00 ,  C25D 15/02 ,  H01R 13/03
FI (5):
C25D5/10 ,  C25D7/00 H ,  C25D15/02 J ,  H01R13/03 D ,  C25D15/02 F
F-Term (8):
4K024AA03 ,  4K024AA07 ,  4K024AB02 ,  4K024AB03 ,  4K024AB12 ,  4K024BA09 ,  4K024BB10 ,  4K024GA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 特開昭54-45634号公報(第3頁)
  • 特開昭53-11131号公報(第2頁)
  • 特開昭63-145819号公報(第2頁)
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Cited by examiner (3)

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