位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：清水守 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995333204
Publication number (International publication number)：1997179287
Application date： Dec. 21, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【目的】効果を持たせたい最も微細なパターンの領域にのみハーフトーン方式を適用できるため、大パターンやスクライブラインにおける膜減りを抑えることができる位相シフトマスク及びその製造方法を提供する。【構成】位相シフトマスクにおいて、マスク基板41上に開口部45を有するハーフトーンシフター膜44と、開口部43を有する遮光膜42とを有し、前記遮光膜42上の一部に前記ハーフトーンシフター膜44が形成されるようにした。

Claim (excerpt)：

(a)マスク基板上に開口部を有するハーフトーンシフター膜と、(b)開口部を有する遮光膜とを有し、(c)前記遮光膜上の一部に前記ハーフトーンシフター膜が形成されることを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

露光用マスク、露光用マスクの製造方法及びこの露光用マスクを用いた露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-327623 Applicant：株式会社東芝
特開平4-025841
投影露光用基板の製造方法とこの基板を用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-102695 Applicant：株式会社東芝

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Cited by examiner (6)

投影露光用基板の製造方法とこの基板を用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-102695 Applicant：株式会社東芝
露光用マスク、露光用マスクの製造方法及びこの露光用マスクを用いた露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-327623 Applicant：株式会社東芝
マスクおよびパタン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-149835 Applicant：日本電信電話株式会社

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