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J-GLOBAL ID：200903059576809778

光反応性組成物、該光反応性組成物を含有した酸反応性高分子組成物及び酸反応性樹脂層

Inventor：
市村 国宏

About 市村 国宏


Applicant, Patent owner：
新技術事業団

About 新技術事業団


Agent (1)： 田中 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995049588
Publication number (International publication number)：1996248561
Application date： Mar. 09, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：
【要約】【目的】本発明は、光反応速度の大なる光反応性組成物を提供することを目的とする。【構成】光の作用によって酸を発生する光酸発生剤と、該光酸発生剤より発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤とからなる光反応性組成物である。
Claim (excerpt)：
光の作用によって酸を発生する光酸発生剤と、該光酸発生剤より発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤とからなる光反応性組成物。
IPC (5)：
G03C 1/675 ,  C08K 5/15 KFY ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  C08L 33/12 LHY
FI (5)：
G03C 1/675 A ,  C08K 5/15 KFY ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  C08L 33/12 LHY
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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