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J-GLOBAL ID：200903059576809778

光反応性組成物、該光反応性組成物を含有した酸反応性高分子組成物及び酸反応性樹脂層

Inventor： 市村 国宏
Applicant, Patent owner： 新技術事業団
Agent (1)： 田中 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995049588
Publication number (International publication number)：1996248561
Application date： Mar. 09, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】本発明は、光反応速度の大なる光反応性組成物を提供することを目的とする。【構成】光の作用によって酸を発生する光酸発生剤と、該光酸発生剤より発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤とからなる光反応性組成物である。

Claim (excerpt)：

光の作用によって酸を発生する光酸発生剤と、該光酸発生剤より発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤とからなる光反応性組成物。

IPC (5)：

G03C 1/675 ,  C08K 5/15 KFY ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  C08L 33/12 LHY

FI (5)：

G03C 1/675 A ,  C08K 5/15 KFY ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  C08L 33/12 LHY

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 2段階の化学増幅を利用するパタン形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-129321   Applicant：日本電信電話株式会社
• 放射線感応性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-156429   Applicant：沖電気工業株式会社