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J-GLOBAL ID：200903059704344449

希土類含有金属酸化物薄膜の製造方法

Inventor：
出来 成人

About 出来 成人

, 
水畑 穣

About 水畑 穣


Applicant, Patent owner：
財団法人新産業創造研究機構

About 財団法人新産業創造研究機構


Agent (2)： 梶 良之 ,  須原 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005077724
Publication number (International publication number)：2006256916
Application date： Mar. 17, 2005
Publication date： Sep. 28, 2006
Summary：
【課題】 例えばUV光励起高効率蛍光膜等に有用な希土類含有金属酸化物薄膜を安定して製造できる方法を提供する。【解決手段】 液相析出法(LPD法)により基板上に希土類含有金属酸化物薄膜を直接析出させる。前記LPD法における反応溶液が、希土類イオンキレート錯体と金属フッ化物錯体とを混合する工程を含む方法で製造されている。上記反応溶液にフッ素イオン消費剤を添加することにより、前記基板上に希土類含有金属酸化物薄膜をLPD法により析出させる(選択図(a))。そして、生成した薄膜を高温加熱処理する(選択図(b)〜(d))。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
LPD法により基板上に希土類含有金属酸化物薄膜を直接析出させる、希土類含有金属酸化物薄膜の製造方法であって、 前記LPD法における反応溶液が、希土類イオンキレート錯体と金属フッ化物錯体とを混合する工程を含む方法で製造されており、 上記反応溶液にフッ素イオン消費剤を添加することにより、前記基板上に希土類含有金属酸化物薄膜をLPD法により析出させ、 生成した薄膜を高温加熱処理することを特徴とする、希土類含有金属酸化物薄膜の製造方法。
IPC (2)：
C01B 13/32 ,  C01G 25/02
FI (2)：
C01B13/32 ,  C01G25/02
F-Term (15)：
4G042DA02 ,  4G042DB03 ,  4G042DB08 ,  4G042DB22 ,  4G042DB28 ,  4G042DC03 ,  4G042DD02 ,  4G042DE03 ,  4G042DE12 ,  4G048AA01 ,  4G048AB02 ,  4G048AC03 ,  4G048AC08 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (7)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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