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J-GLOBAL ID：200903059761624458

有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法

Inventor：
中川 創太

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田中 俊博

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葛 甬生

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佐久間 博司

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伊藤 三郎

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池口 学

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Applicant, Patent owner：
株式会社荏原製作所

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Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997190136
Publication number (International publication number)：1999033569
Application date： Jul. 15, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：
【要約】【課題】 有機塩素化合物を含有する汚水の処理を紫外線または紫外線及び酸化剤を用いて行う処理方法において、紫外線照射の効率を上げて、従来より高度な処理を効率良く行うことを可能とし、処理コストを低減できる処理方法を提供すること。【解決手段】 有機塩素化合物を含有する汚水を物理化学的に処理する方法において、有機塩素化合物を含有する汚水をオゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第一処理工程に導入し、次いで(A)紫外線、(B)紫外線及びオゾン含有気体、(C)紫外線及び過酸化水素、又は(D)紫外線、オゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第二処理工程に導入することを特徴とする有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。
Claim (excerpt)：
有機塩素化合物を含有する汚水を物理化学的に処理する方法において、有機塩素化合物を含有する汚水をオゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第一処理工程に導入し、次いで(A)紫外線、(B)紫外線及びオゾン含有気体、(C)紫外線及び過酸化水素、又は(D)紫外線、オゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第二処理工程に導入することを特徴とする有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。
IPC (6)：
C02F 1/78 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 ZAB ,  C02F 1/72 101
FI (6)：
C02F 1/78 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 ZAB Z ,  C02F 1/72 101
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (17)
  • 特開昭62-176595
  • 特開昭60-028883
  • 特開昭58-104693
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Cited by examiner (11)
  • 特表平4-506029
  • 特開昭55-147192
  • 水処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-311616   Applicant：株式会社タクマ
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