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J-GLOBAL ID：200903059846679685
1,6-ヘキサンジオールの製造法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997218538
Publication number (International publication number)：1999060524
Application date： Aug. 13, 1997
Publication date： Mar. 02, 1999
Summary：
【要約】【課題】 1,6-ヘキサンジオールの製造法を提供する。【解決手段】 アジピン酸、オキシカプロン酸又はカプロラクトンを、GHSV10000hr-1以下、温度260°C以上の条件下で水素で還元する工程を経て調製された担体付Ru-Sn触媒の存在下、液相中で水素で還元する。
Claim (excerpt)：
アジピン酸、オキシカプロン酸及びカプロラクトンから選ばれた化合物を、ルテニウム及び錫を担体に担持した触媒の存在下、液相中で水素と反応させて1,6-ヘキサンジオールを製造する方法において、触媒として、10000/hr以下のガス空間速度及び260°C以上の温度において、水素で還元処理した触媒を用いることを特徴とする、1,6-ヘキサンジオールの製造法。
IPC (4)：
C07C 31/20
, B01J 23/62
, C07C 29/149
, C07B 61/00 300
C07C 31/20 Z
, B01J 23/62 X
, C07C 29/149
, C07B 61/00 300
Cited by examiner (5)
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