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J-GLOBAL ID:200903059979639201
光触媒体の作製方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
大島 泰甫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998301475
Publication number (International publication number):2000126613
Application date: Oct. 22, 1998
Publication date: May. 09, 2000
Summary:
【要約】【課題】 スパッタ法によって光触媒活性の経時劣化が生じない光触媒体を作製する。【解決手段】 ターゲット2に酸化チタンを用い、アルゴンと酸素の混合ガスをスパッタリング装置への混入ガスとして用い、導入ガスのガス圧を10mTorrより高くして、混合ガスプラズマにより酸化チタンの成膜を行う。あるいは、ターゲット2に金属チタンを用い、アルゴンと酸素の混合ガスをスパッタリング装置への混入ガスとして用い、導入ガスのガス圧を10mTorrより高くして、混合ガスプラズマによる反応性スパッタリングによりアナターゼ型結晶の酸化チタンの成膜を行う。
Claim (excerpt):
スパッタ法により基板上に金属酸化物からなる光触媒膜を形成するとき、導入ガスを10mTorrより高い高ガス圧にすることを特徴とする光触媒体の作製方法。
IPC (5):
B01J 35/02 ZAB
, B01J 21/06
, B01J 37/02 301
, B01J 37/02
, C23C 14/08
FI (5):
B01J 35/02 ZAB J
, B01J 21/06 M
, B01J 37/02 301 P
, B01J 37/02 301 J
, C23C 14/08 J
F-Term (23):
4G069AA03
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069BC13B
, 4G069BD03B
, 4G069BD05B
, 4G069CA01
, 4G069CA10
, 4G069CA17
, 4G069DA06
, 4G069EA08
, 4G069FB02
, 4G069FC02
, 4G069FC07
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA48
, 4K029BB01
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DC03
, 4K029DC05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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積層体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-089657
Applicant:旭硝子株式会社
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光触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-146721
Applicant:株式会社ブリヂストン
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光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-146723
Applicant:株式会社ブリヂストン
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