Pat
J-GLOBAL ID:200903060109305381
金属酸化物膜の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山下 昭彦
, 岸本 達人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005105395
Publication number (International publication number):2006282464
Application date: Mar. 31, 2005
Publication date: Oct. 19, 2006
Summary:
【課題】 基材表面上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、基材が複雑な構造部を有する場合においても、簡便なプロセスで均一な金属酸化物膜を得ることが可能であり、さらに結晶性に優れた金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記基材表面と上記金属酸化物膜形成用溶液とを接触させる際に、光を照射することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】 図4
Claim (excerpt):
基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、
前記基材表面と前記金属酸化物膜形成用溶液とを接触させる際に、光を照射することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法。
IPC (3):
C01G 1/02
, C23C 18/14
, H01B 13/00
FI (3):
C01G1/02
, C23C18/14
, H01B13/00 503Z
F-Term (66):
4G042DA02
, 4G042DB08
, 4G042DB15
, 4G042DB38
, 4G042DD02
, 4G042DE04
, 4G042DE06
, 4G042DE14
, 4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CD02
, 4G076AA01
, 4G076AA02
, 4G076AC10
, 4G076BA14
, 4G076BB03
, 4G076BC02
, 4G076BD02
, 4G076BD10
, 4G076BG05
, 4G076CA10
, 4G076CA23
, 4G076DA11
, 4G076DA30
, 4K022AA02
, 4K022AA03
, 4K022AA05
, 4K022AA12
, 4K022AA13
, 4K022BA02
, 4K022BA08
, 4K022BA09
, 4K022BA11
, 4K022BA14
, 4K022BA15
, 4K022BA17
, 4K022BA20
, 4K022BA21
, 4K022BA22
, 4K022BA25
, 4K022BA26
, 4K022BA28
, 4K022BA33
, 4K022CA06
, 4K022CA17
, 4K022CA18
, 4K022CA20
, 4K022CA21
, 4K022DA09
, 4K022DB02
, 4K022DB04
, 4K022DB07
, 4K022DB08
, 4K022DB13
, 4K022DB18
, 4K022DB19
, 4K022DB24
, 5F058BA09
, 5F058BC03
, 5F058BD05
, 5F058BF41
, 5F058BF69
, 5F058BF77
, 5F058BF78
, 5F058BJ04
, 5G323AA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
特許第3353070号
-
透明酸化亜鉛皮膜及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-188292
Applicant:松下電器産業株式会社, 上村工業株式会社, 大阪市
-
触媒核が付与された基体、基体への触媒化処理方法及び無電解めっき方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-149651
Applicant:大阪市, 松下電器産業株式会社, 上村工業株式会社
Cited by examiner (6)
-
金属酸化物薄膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-345322
Applicant:株式会社関西新技術研究所
-
酸化チタン薄膜光触媒の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-112561
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
-
酸化チタン膜付き製品の製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-369281
Applicant:東海ゴム工業株式会社
-
透明酸化亜鉛皮膜及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-188292
Applicant:松下電器産業株式会社, 上村工業株式会社, 大阪市
-
触媒核が付与された基体、基体への触媒化処理方法及び無電解めっき方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-149651
Applicant:大阪市, 松下電器産業株式会社, 上村工業株式会社
-
特許第3353070号
Show all
Return to Previous Page