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J-GLOBAL ID:200903066288465688
触媒核が付与された基体、基体への触媒化処理方法及び無電解めっき方法
Inventor:
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,
Applicant, Patent owner:
,
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Agent (1):
小島 隆司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999149651
Publication number (International publication number):2000336486
Application date: May. 28, 1999
Publication date: Dec. 05, 2000
Summary:
【要約】【解決手段】 銀及びパラジウムからなる金属触媒粒子が無電解めっきすべき非導電部表面に2000核/μm2以上の核密度で付着されてなる基体。【効果】 本発明によれば、非導電性基体上に微細な銀とパラジウムからなる金属触媒粒子を高密度に付与することができる。
Claim (excerpt):
銀及びパラジウムからなる金属触媒粒子が無電解めっきすべき非導電部表面に2000核/μm2以上の核密度で付着されてなる基体。
F-Term (18):
4K022AA01
, 4K022AA02
, 4K022AA03
, 4K022AA18
, 4K022AA42
, 4K022BA04
, 4K022BA08
, 4K022BA14
, 4K022BA15
, 4K022BA16
, 4K022BA25
, 4K022BA33
, 4K022CA06
, 4K022CA07
, 4K022CA18
, 4K022CA20
, 4K022CA21
, 4K022DA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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不伝導基質上の銀層沈着
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-320892
Applicant:アドテック・ホルディングス・リミテッド
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インクジェットプリンタヘッドの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-093462
Applicant:株式会社テック, 東芝イーエムアイ株式会社
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イオン交換膜への白金めっき方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-294383
Applicant:スガ試験機株式会社, 科学技術振興事業団
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樹脂成形品の塗装方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-299018
Applicant:日本ジーイープラスチックス株式会社, キザイ株式会社, アルファーサイエンティフィック株式会社
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情報記録原盤の複製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-028452
Applicant:東芝イーエムアイ株式会社
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