Pat

J-GLOBAL ID：200903060127240742

光断層画像化装置

Inventor： 戸井田 昌宏 ,  辻田 和宏 ,  藤田 寛
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社 ,  フジノン株式会社
Agent (3)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛 ,  本澤 大樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005089996
Publication number (International publication number)：2006267071
Application date： Mar. 25, 2005
Publication date： Oct. 05, 2006
Summary：

【課題】 生体組織が水分を多く含む物質に覆われている場合であっても、生体組織の所望の深度までの光断層画像を高精度に取得する。【解決手段】 低コヒーレンス光Lを射出する光源2を用いて光トモグラフィー計測を行うときに、中心波長λcが0.90μm以上かつ1.15μm以下の範囲にある低コヒーレンス光Lを用いる。 【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

水分を多く含む物質に覆われた測定対象の断層画像を取得する光断層画像化装置において、 低コヒーレンス光を射出する光源と、 該光源から射出された前記低コヒーレンス光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、 前記測定光が前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、 該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光の周波数および強度に基づいて、前記測定対象の各深さ位置における前記反射光の強度を検出する干渉光検出手段と、 該干渉光検出手段により検出された前記各深さ位置における前記干渉光の強度を用いて前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段と を有し、 前記低コヒーレンス光の中心波長が、0.90μm以上かつ1.15μm以下の範囲にあることを特徴とする光断層画像化装置。

IPC (5)：

G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  G01J 3/10 ,  G01J 3/45 ,  G01N 21/01

FI (5)：

G01N21/17 625 ,  A61B10/00 E ,  G01J3/10 ,  G01J3/45 ,  G01N21/01 D

F-Term (20)：

2G020AA03 ,  2G020BA20 ,  2G020CA12 ,  2G020CB05 ,  2G020CB23 ,  2G020CB42 ,  2G020CC22 ,  2G020CD12 ,  2G020CD24 ,  2G020CD33 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ17 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• スペクトル干渉に基づく光学・トモグラフィ-および光学表面プロファイル測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-082817   Applicant：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング