Pat
J-GLOBAL ID：200903060136338640

パターンの保持方法

Inventor：
日城 良樹

About 日城 良樹

, 
竹山 尚幹

About 竹山 尚幹

, 
山本 茂樹

About 山本 茂樹


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992196871
Publication number (International publication number)：1994043637
Application date： Jul. 23, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 耐熱性、耐溶剤性及び基体との密着性等の諸性能に優れたポジ型パターンの、工業的有利な保持方法を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含む樹脂組成物、キノンジアジド化合物及び光酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物を基体に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像除去してポジ型レジストパターンを形成させ、次いで、非露光部である上記レジストパターンを硬化させること、あるいは全面露光して硬化させること、又は全面露光して酸により硬化させることからなるパターンの保持方法。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含む樹脂組成物及びキノンジアジド化合物を含有するポジ型レジスト組成物を基体に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像除去してポジ型レジストパターンを形成させ、次いで、形成されたポジ型レジストパターンを硬化させることからなるパターンの保持方法。
IPC (3)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/40 501
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (20)
  • 特開昭60-263143
  • 特開昭60-263143
  • 特開昭63-097948
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