Pat

J-GLOBAL ID：200903060347830648

マスク上の欠陥を修理する方法

Inventor： ブライアン・ジェイ・グレノン ,  リチャード・エイ・ハイト ,  デニス・エム・ハイドン ,  マイケル・エス・ハイブス ,  ジェイ・ピーター・レヴィン ,  ティモシー・イー・ニアリィ ,  レイモンド・エイ・ロシュフォート ,  デニス・エイ・シュミット ,  ジェイセック・ジー・スモリンスキー ,  アルフレッド・ワグナー
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998006995
Publication number (International publication number)：1998307383
Application date： Jan. 16, 1998
Publication date： Nov. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】 修理により誘発される損傷なしに、マスクを修理する方法を提供する。【解決手段】 マスク20上に被膜40を設けて、マスクの透明領域への損傷を防止する。被膜は、金属,高分子,または炭素である。被膜は、マスクの透明領域上に、およびマスクの光吸収材料22a,22bの上側に形成される。薄い銅層を有する被膜は、イオン・ビームによるイメージングをかなり改善し、一方、FIB汚染からマスクの透明領域を保護する。感光高分子よりなる被膜を用いて、不透明欠陥をエッチングする。不透明欠陥に隣接する所望の不透明領域は、このエッチング工程でエッチングされるが、形成された透明欠陥44は、次のFIB付着工程で修理される。このとき、銅被膜は、隣接する透明領域をFIB汚染から保護する。

Claim (excerpt)：

マスク上の欠陥を修理する方法において、(a)第1の領域と第2の領域とを有する表面を有する透明基板を設ける工程を含み、第1の光吸収材料は、前記第1の領域を被覆するが、前記第2の領域を被覆せず、(b)前記第2の領域の前記基板上に第2の材料を設ける工程を含み、前記第2の材料は、前記第2の領域を一時的に保護し、前記第2の材料は、前記第1の光吸収材料および前記基板に対して選択的に除去可能であり、(c)前記マスクを検査し、前記マスク上の欠陥領域にある欠陥を検出する工程を含み、(d)前記欠陥領域にエネルギーを与え、前記欠陥領域内の前記第1の光吸収材料の一部と、前記欠陥領域内の前記第2の材料とのいずれかを除去し、前記欠陥領域の近辺の前記第2の領域の前記第2の材料上に、不所望な層を付着する工程を含み、(e)前記第2の材料と、前記第2の材料上の前記不所望な層とを、選択的に除去する工程を含む、ことを特徴とするマスク上の欠陥を修理する方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 T ,  H01L 21/30 502 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開平3-009354
  
• 特開平3-139647
  
• 特開平4-000449
  
• 特開平4-026846
  
• 位相差マスクの凸状欠陥の除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-130833   Applicant：沖電気工業株式会社
• マスク欠陥の修正方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-260430   Applicant：沖電気工業株式会社