超純水製造装置の殺菌方法および超純水製造装置の殺菌装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山崎宏 , 前田厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005266630
Publication number (International publication number)：2007075328
Application date： Sep. 14, 2005
Publication date： Mar. 29, 2007
Summary：

【課題】ランニングコストが低くて、短時間で殺菌処理ができる超純水製造装置の殺菌方法および殺菌装置を提供する。【解決手段】この超純水製造装置の殺菌装置によれば、二次純水タンク1内に窒素マイクロナノバブル発生機3が設置されている。殺菌が必要な時は、二次純水タンク1内で窒素マイクロナノバブル発生機3が窒素マイクロナノバブルを発生させて、この窒素マイクロナノバブルにより過酸化水素等の薬品を使用することなく、二次純水タンク1から殺菌することができる。すなわち、二次純水製造装置の最初の設備が二次純水タンク1であるので、最初の設備から殺菌することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

超純水製造装置を構成する一次純水製造装置と二次純水製造装置とのうちの上記二次純水製造装置が有する超純水配管に、マイクロナノバブルを含有する水を流して、上記二次純水製造装置を殺菌することを特徴とする超純水製造装置の殺菌方法。

IPC (7)：

A61L 2/02 , C02F 1/50 , C02F 1/42 , B01D 61/14 , C02F 1/44 , C02F 1/32 , C02F 9/00

FI (25)：

A61L2/02 Z , C02F1/50 510B , C02F1/50 520B , C02F1/50 531R , C02F1/50 531Z , C02F1/50 540A , C02F1/50 550C , C02F1/50 550H , C02F1/50 550L , C02F1/50 560A , C02F1/50 560C , C02F1/50 560D , C02F1/50 560E , C02F1/42 A , B01D61/14 , C02F1/44 A , C02F1/44 J , C02F1/50 510A , C02F1/32 , C02F9/00 502A , C02F9/00 502G , C02F9/00 502J , C02F9/00 502N , C02F9/00 503B , C02F9/00 504B

F-Term (24)：

4C058AA24 , 4C058BB02 , 4C058BB07 , 4C058BB09 , 4C058JJ14 , 4D006GA06 , 4D006KC21 , 4D006KD06 , 4D006KD21 , 4D006PA10 , 4D006PB05 , 4D006PB06 , 4D006PC04 , 4D025AA04 , 4D025DA04 , 4D025DA05 , 4D025DA10 , 4D037AA02 , 4D037AA03 , 4D037AA05 , 4D037AB03 , 4D037BA18 , 4D037CA03 , 4D037CA15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
ナノ気泡の生成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-145325 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (2)

洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-343865 Applicant：栗田工業株式会社
ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

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