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J-GLOBAL ID:200903060570696554

ウエハ処理方法及び処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井桁 貞一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994100362
Publication number (International publication number):1995307375
Application date: May. 16, 1994
Publication date: Nov. 21, 1995
Summary:
【要約】【目的】 ウエハの搬送時や保持時に付着するウエハ裏面の塵を低減する。【構成】 1)表面にうねりが形成されてなるウエハ保持部の表面にウエハの裏面を保持して,該ウエハを処理する,2)前記うねりは,高低差が 1μm以下であり,且つ高低間距離が数 100μm乃至数1000μmである,3)ウエハの裏面を保持するウエハ保持部を有し,該ウエハ保持部は該ウエハとの接触部の表面にうねりが形成されてなるウエハ処理装置,4)前記うねりは前記接触部の表面をバフ研磨して形成されてなる,5)前記うねりは前記接触部の表面に被着された被膜に形成されてなる,6)前記うねりが前記接触部の表面に相当する部分に形成されたいるモールド鋳型により,前記ウエハ保持部が樹脂モールド成形により作製されてなる,7)前記ウエハ保持部は真空吸着機構からなる,8)前記ウエハ保持部は静電吸着機構からなる。
Claim (excerpt):
表面にうねりが形成されてなるウエハ保持部の表面にウエハの裏面を保持して,該ウエハを処理することを特徴とするウエハ処理方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
  • 特開平1-129438
  • 特開平2-281744
  • 特開昭58-137536
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