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J-GLOBAL ID：200903060621536700
ラジカル反応を用いた形状創成装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
三品 岩男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997077619
Publication number (International publication number)：1998273788
Application date： Mar. 28, 1997
Publication date： Oct. 13, 1998
Summary：
【要約】【課題】大口径レンズをプラズマCVMにより加工する。【解決手段】加工用空間146を仕切機構(円筒隔壁32および円盤隔壁33)により駆動用空間147と仕切り、該空間146を構成する気密容器47および仕切機構32,33と支持部21とを導通可能に接続する。接触子31bは、一端が円盤隔壁33に固定され、他端が円筒隔壁32内側面を摺動することにより、円盤隔壁33が上下動しても導通を維持する。接触子51は、一端が支持部21に固定され、他端は円盤隔壁33上面を摺動することにより、支持部21が水平に移動または回動しても導通を維持する。
Claim (excerpt)：
導体からなる気密容器と、反応ガスを該気密容器内に供給する反応ガス供給機構と、該気密容器内の気体を排出する排気機構とを備え、上記気密容器内に、上記プラズマを生成させるための電極と、被加工物を支持するための支持部と、上記支持部を支持部材により支持し、該支持部材を介して上記支持部を変位させる駆動機構とを備える、被加工物を構成する物質と、プラズマによって生成した反応ガスのラジカルとの反応により被加工物の形状を変化させるための形状創成装置において、上記気密容器内部を、加工用空間と駆動用空間との少なくとも2つに仕切る、導体からなる仕切機構と、上記気密容器、上記支持部、上記支持部材および上記仕切機構のうちののいずれかと上記仕切機構との間を、被接触体が該接触子に対して相対的に変位可能なように該被接触体に接触することで導通可能に接続する接触子とを有し、上記電極および上記支持部は、上記加工用空間に配置され、上記駆動機構は、上記駆動用空間に配置され、上記加工用空間を構成する上記気密容器および上記仕切機構と、上記支持部とが、導通可能に接続されていることを特徴とする形状創成装置。
IPC (2)：
FI (2)：
C23F 4/00 Z
, C03B 19/00 Z
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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