感光性組成物とこれを用いた微細パターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994314009
Publication number (International publication number)：1996146599
Application date： Nov. 24, 1994
Publication date： Jun. 07, 1996
Summary：

【要約】【目的】シリル化法による微細パターンの形成を可能にした感光性組成物とそれを用いた微細パターン形成方法を得る。【構成】感光樹脂等にシリル化を促進する化合物として、分子内に2つ以上のヒドロキシ基を有する化合物、或いは露光により塩基を発生する光塩基発生剤を含む。露光により感光性樹脂における露光部或いは未露光部のシリル化が促進され、酸素フラズマによるエッチング耐性が高められ、パターンのコントラストが明瞭になり、かつ微細パターンの形成が可能となる。

Claim (excerpt)：

感光部或いは未感光部をシリル化して耐エッチング性を高める感光性樹脂等の感光性組成物であって、シリル化を促進する化合物として、分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物を備えることを特徴とする感光性組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/075 501 , G03F 7/38 512 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平1-154049
パターン形成用材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-347042 Applicant：ヘキストジャパン株式会社
乾式現像可能なフォトレジスト組成物およびその使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-305898 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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