共焦点内視鏡

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：松岡修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005182150
Publication number (International publication number)：2007000262
Application date： Jun. 22, 2005
Publication date： Jan. 11, 2007
Summary：

【課題】光源装置が内視鏡本体から離れていても共焦点観察における入射光束の集光位置のZ軸深度を調整可能であり、及び/または、内視鏡観察、共焦点観察をしながら処置具の操作を行うことが容易な共焦点内視鏡を提供することである。【解決手段】共焦点観察のための共焦点観察部に内蔵された共焦点観察用部材を構成する光学部材の少なくとも一部を駆動して共焦点観察における入射光束の集光位置の深度を変化させるZ軸深度調節機構を操作するための操作手段が、共焦点内視鏡のハンドル部に設けられている構成とした。また、操作手段が、第1の位置と第2の位置との間で移動可能なレバーを有し、このレバーを移動させることによって集光位置の深度を変化させるようZ軸深度調節機構が駆動される構成とした。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

被検部の映像を観察するための通常観察用光学系と、被検部の共焦点走査観察画像を得るための共焦点観察用部材が内蔵された共焦点観察部と、を有する共焦点内視鏡であって、前記共焦点観察用部材を構成する光学部材の少なくとも一部を駆動して、共焦点観察における集光位置の深度を変化させるZ軸深度調節機構と、 Z軸深度調節機構を操作するための操作手段と、を有し、前記操作手段が前記共焦点内視鏡のハンドル部に設けられている、ことを特徴とする共焦点内視鏡。

IPC (2)：

A61B 1/00 , A61B 1/04

FI (2)：

A61B1/00 300D , A61B1/04 372

F-Term (6)：

4C061BB08 , 4C061FF12 , 4C061HH51 , 4C061LL02 , 4C061PP13 , 4C061QQ01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

共焦点光走査プローブシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-291076 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

Cited by examiner (7)

内視鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-329868 Applicant：オリンパス株式会社
集光光学系、共焦点光学システムおよび走査型共焦点内視鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-314204 Applicant：ペンタックス株式会社, オプティスキャンピーティーワイリミテッド
深度制御またはZ軸駆動の方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-118579 Applicant：オプティスキャンピーティーワイリミテッド, ペンタックス株式会社

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