ガスハイドレートの製造方法および製造装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：石井博樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001247625
Publication number (International publication number)：2003055677
Application date： Aug. 17, 2001
Publication date： Feb. 26, 2003
Summary：

【要約】【課題】輸送や貯蔵の際の利便性に優れた高濃度のガスハイドレートを製造する方法およびそのための装置を提供すること。【解決手段】所定圧力および所定温度の下で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガスハイドレートの製造装置100は、水に原料ガスを気泡として導入する多孔板13を備えた第1の生成槽11と、第1の生成槽11における多孔板13よりも径の大きな気泡を導入する多孔板23を備えた第2の生成槽21と、第1の生成槽11で生成した細粒ガスハイドレート55および第2の生成槽21で生成した粗粒ガスハイドレート56を混合する混合槽31とを備えており、粒径の異なるガスハイドレートの混合物57を製造する。

Claim (excerpt)：

所定圧力および所定温度の下、生成槽内で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガスハイドレートの製造方法であって、前記生成槽内の水に原料ガスを気泡として導入するとともに、該気泡を異なる2つ以上の気泡径に制御することにより、異なる2つ以上の粒径のガスハイドレートを生成させて、該異なる2つ以上の粒径のガスハイドレートを均一に混合することを特徴とするガスハイドレートの製造方法。

IPC (7)：

C10L 3/06 , C01B 31/20 , C07B 61/00 , C07B 63/02 , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04

FI (7)：

C01B 31/20 Z , C07B 61/00 C , C07B 63/02 B , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04 , C10L 3/00 A

F-Term (7)：

4G046JA04 , 4G046JB03 , 4H006AA02 , 4H006AA04 , 4H006AC93 , 4H006BD81 , 4H006BE60

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ガスハイドレートの製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-118502 Applicant：三井造船株式会社
メタンハイドレートの製造装置および製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-186503 Applicant：三井造船株式会社
メタンハイドレートの製造方法及び製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-295942 Applicant：三菱重工業株式会社

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