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J-GLOBAL ID：200903060902924556

被膜付基材および該被膜形成用塗布液

Inventor：
熊沢 光章

About 熊沢 光章

, 
松田 政幸

About 松田 政幸

, 
平井 俊晴

About 平井 俊晴


Applicant, Patent owner：
触媒化成工業株式会社

About 触媒化成工業株式会社


Agent (4)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005264048
Publication number (International publication number)：2007076055
Application date： Sep. 12, 2005
Publication date： Mar. 29, 2007
Summary：
【課題】 防弦性と反射防止性能に優れた被膜付基材を提供する。【解決手段】 基材上に、球状粒子と被膜(1)形成用マトリックスとからなる凹凸を有する被膜(1)が形成された被膜付基材であって、該被膜(1)の凸部の高さ(T1)と該被膜(1)の凹部の高さ(T2)との差が30〜1500nmの範囲にある被膜付基材。前記球状粒子の平均粒子径(DP)が0.1〜3μmの範囲にある。前記被膜(1)中の球状粒子の含有量が5〜70重量%の範囲にある。前記被膜(1)の平均膜厚が1〜10μmの範囲にある。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基材上に、球状粒子と被膜(1)形成用マトリックスとからなる凹凸を有する被膜(1)が形成された被膜付基材であって、該被膜(1)の凸部の高さ(T1)と該被膜(1)の 凹部の高さ(T2)との差が30〜1500nmの範囲にあることを特徴とする被膜付基 材。
IPC (3)：
B32B 3/30 ,  C09D 201/00 ,  C09D 5/00
FI (3)：
B32B3/30 ,  C09D201/00 ,  C09D5/00 Z
F-Term (48)：
4F100AA20 ,  4F100AJ06 ,  4F100AK01A ,  4F100AK25 ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100DD01A ,  4F100DD07A ,  4F100DE01A ,  4F100GB41 ,  4F100JK06 ,  4F100JK10 ,  4F100JN06 ,  4F100JN26 ,  4F100YY00A ,  4J038CC021 ,  4J038CC022 ,  4J038CD021 ,  4J038CD091 ,  4J038CE071 ,  4J038CF021 ,  4J038CG131 ,  4J038CG132 ,  4J038CH001 ,  4J038CH002 ,  4J038DA041 ,  4J038DA221 ,  4J038DB001 ,  4J038DD001 ,  4J038DG001 ,  4J038DG321 ,  4J038DG322 ,  4J038DL001 ,  4J038HA166 ,  4J038HA446 ,  4J038JA17 ,  4J038JA25 ,  4J038JA33 ,  4J038JA55 ,  4J038JC31 ,  4J038JC32 ,  4J038KA06 ,  4J038KA20 ,  4J038MA10 ,  4J038NA17 ,  4J038NA19 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (6)
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