ハーフトーン位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小堀益
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996348185
Publication number (International publication number)：1997222719
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：

【要約】【課題】ハーフトーン位相シフトマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】露出光に対して透明な基板21と、前記透明な基板21上に形成された位相シフターパターン23Aと、前記透明な基板21を蝕刻して形成した位相シフト用の溝25とを含むことにより、従来のハーフトーン位相シフトマスクに比べて透過率が向上され、位相シフト用溝25の表面も均一になる。よって、短波長を用いコントラストに優れた微細パターンを形成することができる。

Claim (excerpt)：

露出光に対して透明な基板と、前記透明な基板上に形成された位相シフターパターンと、前記透明な基板を蝕刻して形成した位相シフト用溝とを含むことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

位相シフトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-321294 Applicant：凸版印刷株式会社
ホトマスクおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-046691 Applicant：富士通株式会社
減衰移相マスクおよび製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-024295 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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