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J-GLOBAL ID：200903061369826365

光導波路及びその製造方法

Inventor： 樋口 誠良 ,  高橋 敏幸 ,  戸谷 浩巳 ,  安田 成留 ,  細川 速美 ,  佐藤 文彦
Applicant, Patent owner： オムロン株式会社
Agent (1)： 中野 雅房
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002232918
Publication number (International publication number)：2003172841
Application date： Aug. 09, 2002
Publication date： Jun. 20, 2003
Summary：

【要約】【課題】 複製法によって容易に製作でき、しかも、内部の光信号がコア内から漏れにくい構造を有する光導波路とその製造方法を提供する。【解決手段】 クラッド基板2の上面には、コアを形成するための凹溝3が設けられている。また、凹溝3の両側には、平坦部5を介して窪み6が形成されている。このクラッド基板2の上に紫外線硬化型の透明樹脂8を塗布した後、透明樹脂8をスタンパ13で押さえ付ける。このとき、凹溝3内にコア4が成形されると共にスタンパ13と平坦部5との間で押圧された余分な透明樹脂8は窪み6側へ流動して逃げることができるので、短時間のうちに透明樹脂8を薄くできる。こうして、平坦部5の上に残っている透明樹脂8は、コア4から光が漏れない程度の厚みと幅になる。

Claim (excerpt)：

クラッド部分の界面に設けた凹部にコア材料を充填し、該コア材料を型面で押圧してコアを形成された光導波路において、前記クラッド部分の界面に連通する少なくとも一つの空間を有し、かつ、前記クラッド部分の界面におけるコア材料の厚みは、コア内の光が漏洩しない程度の厚さであることを特徴とする光導波路。

F-Term (7)：

2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA24 ,  2H047PA26 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 微細パターン形成方法、光学素子の製造方法、光学素子および光伝送装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-049194   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開平2-131202
  
• 導波路型光学素子の作製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-242773   Applicant：日本電信電話株式会社
• 光導波路、その作製方法、およびこれを用いた光インタコネクション装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-216193   Applicant：キヤノン株式会社