Pat
J-GLOBAL ID:200903061458463829
有効屈折率法を用いたブレーズド位相型回折光学素子及びその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
三枝 英二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000135056
Publication number (International publication number):2001318217
Application date: May. 08, 2000
Publication date: Nov. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 簡便にしかも精度良く製造することができる位相型回折光学素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。基板上にレジスト層を形成し、該レジスト層上に電子ビーム又はレーザーを照射した後、該レジスト層を現像することにより一部のレジスト層を除去した凹凸面を形成し、該凹凸面に金属層を形成した後、レジスト層を金属層と共にリフトオフし、リフトオフ後の面をエッチングすることにより、凹凸部を形成する位相型回折光学素子の製造方法。
Claim (excerpt):
異なる位相変調能を有する単位パターンを面状に多数配置したランダムな位相分布を有する位相型回折光学素子であって、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により位相変調能を有するように構成され、前記凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされていることを特徴とする位相型回折光学素子。
F-Term (6):
2H049AA03
, 2H049AA13
, 2H049AA37
, 2H049AA45
, 2H049AA52
, 2H049AA63
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
回折格子の作成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-317865
Applicant:キヤノン株式会社
-
光学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-290875
Applicant:日本電信電話株式会社
-
計算機ホログラム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-354628
Applicant:大日本印刷株式会社
-
光ファイバー加工用位相マスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-258241
Applicant:大日本印刷株式会社
Show all
Return to Previous Page