エキシマレーザ装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋敬四郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996256736
Publication number (International publication number)：1998107361
Application date： Sep. 27, 1996
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】パルス発振の繰り返し周波数を高くしても安定した光強度分布を得られるエキシマレーザ装置を提供する。【解決手段】レーザ媒質を収容するための容器内に、レーザ媒質を励起させるための励起手段が配置されている。容器内で発生した光を共振させるための光共振器を有する。容器内で発生した誘導放出光を透過し、容器外に放出する光透過板が容器の壁に気密に取り付けられている。光透過板をガスで冷却するための空冷手段を有する。

Claim (excerpt)：

レーザ媒質を収容するための容器と、前記容器内に配置され、レーザ媒質を励起させるための励起手段と、前記容器内で発生した光を共振させるための光共振器と、前記容器の壁に気密に取り付けられ、前記容器内で発生した誘導放出光を透過し、容器外に放出する光透過板と、前記光透過板をガスで冷却するための空冷手段とを有するエキシマレーザ装置。

IPC (3)：

H01S 3/134 , H01L 21/268 , H01S 3/041

FI (3)：

H01S 3/134 , H01L 21/268 Z , H01S 3/04 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭61-042181
特開平2-222180
ガスレーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-013061 Applicant：株式会社東芝

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