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J-GLOBAL ID:200903062042925730

オゾン注入制御装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996107951
Publication number (International publication number):1997290279
Application date: Apr. 26, 1996
Publication date: Nov. 11, 1997
Summary:
【要約】【課題】 オゾン接触槽内にオゾンを注入する際、損失なく最適なオゾン注入制御を行なうこと。【解決手段】 オゾン接触槽1内にオゾン発生装置2からオゾンが供給される。オゾン発生装置2からのオゾン濃度およびオゾン流量は、制御器3により、オゾン注入速度A=注入オゾン濃度P<SB>in</SB>×注入オゾン流量Q<SB>g </SB>の場合、最小P<SB>in</SB><P<SB>in</SB><最大P<SB>in</SB>最小Q<SB>g </SB><Q<SB>g </SB><最大Q<SB>g</SB>を満たし、かつP<SB>in</SB>が最大P<SB>in</SB>に近づくよう制御される。
Claim (excerpt):
被処理水が流入するオゾン接触槽へ供給されるオゾンの濃度と流量を制御するオゾン注入制御装置において、オゾン注入制御装置は、オゾン注入速度A=注入オゾン濃度P<SB>in</SB>×注入オゾン流量Q<SB>g </SB>の場合、最小P<SB>in</SB><P<SB>in</SB><最大P<SB>in</SB>最小Q<SB>g </SB><Q<SB>g </SB><最大Q<SB>g</SB>を満たし、かつP<SB>in</SB>が最大P<SB>in</SB>に近づくよう制御することを特徴とするオゾン注入制御装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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