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J-GLOBAL ID：200903062248571633

積層体、ポリマー-金属複合材料の作製方法及びそれにより得られた紫外光吸収フィルム、赤外光吸収フィルム、フォトマスク、電磁波シールドフィルム、導電性材料、プリント配線板及び薄層トランジスタ。

Inventor：
松下 泰明

About 松下 泰明


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008068338
Publication number (International publication number)：2009220450
Application date： Mar. 17, 2008
Publication date： Oct. 01, 2009
Summary：
【課題】任意の基材表面に金属材料を固定化しうるポリマー-金属複合材料の形成に有用な、金属材料への吸着性を有するポリマーを高感度で形成しうる積層体、及び、それを用いたポリマー-金属複合材料の作製方法、それにより得られた、紫外線吸収フィルム、赤外線吸収フィルム、フォトマスク、電磁波シールドフィルム、導電性材料、プリント配線板及び薄層トランジスタを提供する。【解決手段】ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を光重合反応により結合しうる構造を表面に有する基材上に、該ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を含有する層、及び、高分子化合物を含有し、酸素遮断能を有する膜を、この順に積層した積層体。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を光重合反応により結合しうる構造を表面に有する基材上に、 該ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を含有する層、及び、 高分子化合物を含有し、酸素遮断能を有する膜を、 この順に積層した積層体。
IPC (5)：
B32B 27/16 ,  G03F 1/08 ,  H05K 1/09 ,  H05K 9/00 ,  G02B 5/22
FI (5)：
B32B27/16 ,  G03F1/08 G ,  H05K1/09 A ,  H05K9/00 W ,  G02B5/22
F-Term (33)：
2H048CA04 ,  2H048CA12 ,  2H048CA13 ,  2H048CA19 ,  2H048CA23 ,  2H095BB25 ,  2H095BB27 ,  4E351BB01 ,  4E351BB33 ,  4E351CC06 ,  4E351DD04 ,  4E351DD05 ,  4E351DD06 ,  4E351DD17 ,  4E351GG20 ,  4F100AG00 ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK16C ,  4F100AK25 ,  4F100AK69C ,  4F100AR00C ,  4F100AS00A ,  4F100AS00B ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JD03C ,  5E321BB23 ,  5E321BB32 ,  5E321BB44 ,  5E321GG05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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