グラフトパターン形成方法及び導電性パターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006131834
Publication number (International publication number)：2006350307
Application date： May. 10, 2006
Publication date： Dec. 28, 2006
Summary：

【課題】基板との密着性に優れ、所望の領域に種々の機能性材料を付与することで、安価な装置を用いて簡易に機能性パターンを形成しうるグラフトパターンの形成方法、及び、基板との密着性と導電性に優れた導電性パターンを安価な装置を用いて簡易に形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。【解決手段】露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、360nm〜700nmの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。ここで形成されたグラフトポリマー生成領域に導電性を付与することで導電性パターンを形成しうる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、360nm〜700nmの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法。

IPC (8)：

G03F 7/031 , H01L 21/28 , C23C 18/20 , C23C 18/30 , H01L 21/320 , G03F 7/004 , G03F 7/40 , C08F 292/00

FI (8)：

G03F7/031 , H01L21/28 A , C23C18/20 A , C23C18/30 , H01L21/88 B , G03F7/004 503Z , G03F7/40 521 , C08F292/00

F-Term (83)：

2H025AA19 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC52 , 2H025BH04 , 2H025CA14 , 2H025CA28 , 2H025CA41 , 2H025DA40 , 2H025FA10 , 2H025FA28 , 2H096AA26 , 2H096AA27 , 2H096BA06 , 2H096CA05 , 2H096CA20 , 2H096EA02 , 2H096EA04 , 2H096EA23 , 2H096HA27 , 2H096HA30 , 2H096LA30 , 4J026AC00 , 4J026BA05 , 4J026BA25 , 4J026BA27 , 4J026BA29 , 4J026BA40 , 4J026BA50 , 4J026CA01 , 4J026DB36 , 4J026FA05 , 4K022AA03 , 4K022AA41 , 4K022BA03 , 4K022BA08 , 4K022BA14 , 4K022BA17 , 4K022BA18 , 4K022BA21 , 4K022BA35 , 4K022CA04 , 4K022CA08 , 4K022CA12 , 4K022CA22 , 4K022DA01 , 4M104BB04 , 4M104BB05 , 4M104BB06 , 4M104BB07 , 4M104BB08 , 4M104BB09 , 4M104BB13 , 4M104BB29 , 4M104BB30 , 4M104BB36 , 4M104DD21 , 4M104DD22 , 4M104DD51 , 4M104DD53 , 4M104HH08 , 5F033GG04 , 5F033HH00 , 5F033HH03 , 5F033HH07 , 5F033HH08 , 5F033HH11 , 5F033HH13 , 5F033HH14 , 5F033HH15 , 5F033HH16 , 5F033HH17 , 5F033HH32 , 5F033HH33 , 5F033HH35 , 5F033PP26 , 5F033PP28 , 5F033QQ00 , 5F033QQ01 , 5F033XX13 , 5F033XX34

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

感光性パラジウム高分子キレート化合物、無電解メッキ用塗布液、および金属微細線パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-338410 Applicant：住友大阪セメント株式会社
基板上の銅配線形成方法及び銅配線の形成された基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-258477 Applicant：富山日本電気株式会社, 奥野製薬工業株式会社, 大阪市
金属膜パターンおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-009400 Applicant：シャープ株式会社

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Cited by examiner (3)

パターン形成方法、画像形成方法、微粒子吸着パターン形成方法、導電性パターン形成方法、パターン形成材料、及び平版印刷版
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-079009 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感光性平版印刷版
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-083103 Applicant：富士写真フイルム株式会社
導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-237004 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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