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J-GLOBAL ID：200903062313415628

半導体製造装置及び半導体装置の製造方法

Inventor：
谷嶋 幹子

About 谷嶋 幹子


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 眞鍋 潔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999133668
Publication number (International publication number)：2000323470
Application date： May. 14, 1999
Publication date： Nov. 24, 2000
Summary：
【要約】【課題】 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法に関し、ウェハの短時間保管中における自然酸化膜の成長と有機物汚染を抑制する。【解決手段】 半導体製造装置に搭載するファン2とフィルタとを組み合わせたファンフィルタユニット1に用いるフィルタとして、化学吸着剤を内蔵するフィルタ3を少なくとも設ける。
Claim (excerpt)：
ファンとフィルタとを組み合わせたファンフィルタユニットを搭載した半導体製造装置において、前記フィルタとして、化学吸着剤を内蔵するフィルタを少なくとも設けたことを特徴とする半導体製造装置。
F-Term (3)：
5F045AB03 ,  5F045BB14 ,  5F045EE10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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