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J-GLOBAL ID：200903062339641804

光学用シリカ含有ポリシロキサン樹脂

Inventor： 櫛引 信男 ,  竹内 貴久子
Applicant, Patent owner： ダウ コーニング アジア株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997235102
Publication number (International publication number)：1998316860
Application date： Aug. 29, 1997
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 光学的に透明で、光学素子に適用可能な光透過率の高い、そして硬度の高い光学用シリカ含有ポリシロキサン樹脂を提供する。【解決手段】 炭素数1〜4の炭化水素基と一般式Cn F(2n+1)C2 H4-(nは1〜8の整数)で表される炭素数3〜10のフロロ炭化水素基とから成る群から選ばれた1種以上の置換基をケイ素原子上の置換基とするポリシロキサン樹脂とコロイダルシリカとを主成分とし、該ポリシロキサン樹脂100重量部に対するコロイダルシリカの量は200重量部以下であり、250nm〜800nmの波長範囲において80%以上の分光透過率を有しかつ屈折率が1.43以下である光学用シリカ含有ポリシロキサン樹脂。

Claim (excerpt)：

炭素数1〜4の炭化水素基と一般式Cn F(2n+1)C2 H4 -(nは1〜8の整数)で表される炭素数3〜10のフロロ炭化水素基とから成る群から選ばれた1種以上の置換基をケイ素原子上の置換基とするポリシロキサン樹脂とコロイダルシリカとを主成分とし、該ポリシロキサン樹脂100重量部に対するコロイダルシリカの量は200重量部以下であり、250nm〜800nmの波長範囲において80%以上の分光透過率を有しかつ屈折率が1.43以下である光学用シリカ含有ポリシロキサン樹脂。

IPC (3)：

C08L 83/04 ,  C08K 3/36 ,  G02B 1/04

FI (3)：

C08L 83/04 ,  C08K 3/36 ,  G02B 1/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 反射防止膜形成用コーティング組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-086485   Applicant：旭光学工業株式会社
• 光学部品の反射防止処理液及び反射防止処理光学部品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-010257   Applicant：伊藤光学工業株式会社
• 電子写真感光体、この電子写真感光体を用いた電子写真装置及びプロセスカートリッジ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-181091   Applicant：キヤノン株式会社