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J-GLOBAL ID：200903062351546485

可視光反応型チタン酸化物及びその製造方法並びに汚染物質の除去方法

Inventor：
山下 芳樹

About 山下 芳樹


Applicant, Patent owner：
株式会社アルトラ

About 株式会社アルトラ


Agent (1)： 小島 清路
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000404987
Publication number (International publication number)：2002211928
Application date： Dec. 30, 2000
Publication date： Jul. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】 高温の熱処理が全く不要であり、アナターゼ型の可視光反応型チタン酸化物を容易に製造する方法、この方法により製造され且つ汚染物質の除去(低減)効果に優れるこのチタン酸化物及び汚染物質の除去方法を提供する。【解決手段】 本可視光反応型チタン酸化物は、アナターゼ型であり、且つ可視光で感応する二酸化チタンである。W元素を含むこともできる。蛍光灯の光線下においてアンモニア等の汚染物質と接触することにより分解することができる。このチタン酸化物は、チタンアルコキサイド、有機溶媒及び酸を含む溶液を加水分解させ、その後得られたゲルを150°C以下(特に15〜120°C)で乾燥させて製造される。可視光線(蛍光灯等)下において上記酸化物と汚染物質とを接触させることにより汚染物質(アンモニア、窒素酸化物、ホルムアルデヒド等)を分解させることができる。
Claim (excerpt)：
アナターゼ型であり、且つ可視光で感応する二酸化チタンであることを特徴とする可視光反応型チタン酸化物。
IPC (8)：
C01G 23/053 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/18 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/30 ,  B01J 35/02 ZAB ,  C02F 1/30
FI (8)：
C01G 23/053 ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/18 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 23/30 M ,  B01J 35/02 ZAB J ,  C02F 1/30 ,  B01D 53/36 J
F-Term (53)：
4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080CC07 ,  4C080CC08 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ20 ,  4D037AA00 ,  4D037AB12 ,  4D037AB18 ,  4D037BA16 ,  4D048AA06 ,  4D048AA08 ,  4D048AA19 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA13X ,  4D048BA27X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048CC38 ,  4D048CC40 ,  4D048EA01 ,  4G047CA02 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G047CD07 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC27 ,  4G069FA01 ,  4G069FB08 ,  4G069FB57 ,  4G069FC07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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