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J-GLOBAL ID:200903062617786550

リソグラフィ用の照明装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996130363
Publication number (International publication number):1997006011
Application date: May. 24, 1996
Publication date: Jan. 10, 1997
Summary:
【要約】【課題】 半導体ウェーハ上へレティクルのイメージを投影するための一様な照明プロフィールを形成すること。【解決手段】 ターゲットサブストレート上へイメージを投影するため安定した一様な照明プロフィールを生成し、伝送損失を減少させ、それにより、サブストレートに達する線(放射ビーム)を増大させ、マスクのイメージにおける不所望のコヒーレントパターン、又は、スペックルを除去すること。電磁線(電磁放射ビーム)源と、該源から離隔された変形可能な鏡(ミラー)と、鏡(ミラー)の表面輪郭を変化させるための複数のアクチュエータと、レティクルより前の回折光学素子と、源から発するプロフィールを検出し且つ出力信号を生ぜしめる検出器と、コントローラとを有すること。
Claim (excerpt):
電磁放射ビーム(線)の源と、変形可能なミラーと、変形可能なミラーの表面輪郭を変化させるために変形可能なミラーに結合されたアクチュエータ装置と、源から発せられた(放射された)放射ビーム(線)の強度プロフィールを求めるするためのプロフィール検出(感知)用装置と、変形可能なミラーに関する表面輪郭を計算し、そしてアクチュエータ装置を制御するために、プロフィール検出(感知)用装置およびアクチュエータ装置に配属されたコントローラ手段(制御装置)と、そして拡散性または回折性の光学素子とを有しこれによって前記源からの放射ビーム(線)が変形可能なミラーから反射され、そして少なくとも1つの拡散性素子を通り、結果として改善されたグローバル(広範)およびローカル(局所的)放射ビーム(線)強度の一様性(均等性)が得られることを特徴とするリソグラフィ用の照明装置。
IPC (3):
G03F 7/20 521 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/20 521 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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