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J-GLOBAL ID:200903062643476763
感光性樹脂組成物密着性向上剤及びそれを含有する感光性樹脂組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
鐘尾 宏紀
, 野口 武男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003163206
Publication number (International publication number):2004361872
Application date: Jun. 09, 2003
Publication date: Dec. 24, 2004
Summary:
【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性を低下させることなく、基板に対する感光性樹脂組成物の密着性を向上させる。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂と感光剤を含む感光性樹脂組成物に、下記一般式(1)〜(5)で表わされるスルホニル基置換窒素化合物あるいは下記一般式(6)〜(8)で表わされるチアジアゾール化合物、例えば1-メシチレンスルホニル-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジフェニル-1,2,3-チアジアゾールを添加、含有させ、基板に塗布する。
Claim (excerpt):
下記一般式(1)〜(5)で表わされるスルホニル基置換窒素化合物あるいは下記一般式(6)〜(8)で表わされるチアジアゾール化合物からなる感光性樹脂組成物密着性向上剤。
IPC (2):
FI (2):
G03F7/004 501
, G03F7/022
F-Term (11):
2H025AA14
, 2H025AB13
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB29
, 2H025CC06
, 2H025FA03
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭58-054335
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特開昭57-060327
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ポジ型感光性組成物とそれを用いた微細パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-214004
Applicant:富士ハントエレクトロニクステクノロジ-株式会社
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ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-206241
Applicant:東京応化工業株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-345381
Applicant:ナガセ電子化学株式会社
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-056319
Applicant:富士フイルムアーチ株式会社
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