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J-GLOBAL ID:200903062895277461

開放気孔型多孔体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 堀田 実 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995191401
Publication number (International publication number):1997040478
Application date: Jul. 27, 1995
Publication date: Feb. 10, 1997
Summary:
【要約】【課題】 傾斜化された開放気孔型多孔積層体への微細孔層の形成を均一かつ安定にするとともに、その粒子の配置などの最適化を図ることができる開放気孔型多孔体の製造方法を提供する。【解決手段】 細孔径が表面に向かって順次小さくなるように傾斜化された開放気孔型多孔積層体の表面に微細孔膜または表面から僅かな深さに渡って微細孔層を有する開放気孔型多孔体の製造方法であって、その開放気孔型多孔積層体の表面に、気相化学反応法、真空蒸着法、イオンプレーティング法およびスパッタリング法のいずれかのうち少なくとも1つの方法で薄膜または表層を形成することを特徴とする。
Claim (excerpt):
細孔径が表面に向かって順次小さくなるように傾斜化された開放気孔型多孔積層体の表面に微細孔膜または表面から僅かな深さに渡って微細孔層を有する開放気孔型多孔体の製造方法であって、その開放気孔型多孔積層体の表面に、気相化学反応法、真空蒸着法、イオンプレーティング法およびスパッタリング法のいずれかのうち少なくとも1つの方法で薄膜または表層を形成することを特徴とする開放気孔型多孔体の製造方法。
IPC (2):
C04B 38/00 304 ,  C04B 41/87
FI (2):
C04B 38/00 304 Z ,  C04B 41/87 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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