洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：中村稔 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996025154
Publication number (International publication number)：1997217087
Application date： Feb. 13, 1996
Publication date： Aug. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】高度な洗浄性と共に残留しにくい性能を有し、LCD製造工程等において基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜するに先立ち前記基板表面を洗浄処理し、更には、基板表面の有機樹脂層を洗浄処理する洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】 (A)炭素数1〜7のアルコール又はフェノールのアルキレンオキシド(付加モル1〜6)付加物又はその低級アルキルエステル及び(B)炭素数12〜25のアルキルフェノール又は炭素数8〜25のアルコールのアルキレンオキシド(付加モル5〜25)付加物を含有する、基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜するに先立ち前記基板表面を洗浄処理するための洗浄剤組成物。

Claim (excerpt)：

基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜するに先立ち前記基板表面を洗浄処理するための洗浄剤組成物であって、下記の成分(A)及び(B)を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。(A)一般式(1)で表される化合物から選択される一種又は二種以上【化1】 R1 -O-(A1 O)n -R2 ・・・(1)(R1 :炭素数1〜7のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基A1 :炭素数2〜4のアルキレン基n :1〜6R2 :炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基又は水素)(B)一般式(2)で表される化合物又は一般式(3)で表される化合物の少なくともいずれか一方から選択される一種又は二種以上【化2】 R3 -O-(A2 O)m -H ・・・(2)(R3 :炭素数12〜25のアルキルフェニル基又はアルケニルフェニル基A2 :炭素数2〜4のアルキレン基m :5〜25)【化3】 R4 -O-(A3 O)m -H ・・・(3)(R4 :炭素数8〜25のアルキル基又はアルケニル基A3 :炭素数2〜4のアルキレン基m :5〜25)

IPC (3)：

C11D 1/72 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1337 500

FI (3)：

C11D 1/72 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1337 500

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-229920 Applicant：花王株式会社
洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-350933 Applicant：花王株式会社
水性液体洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-339931 Applicant：ライオン株式会社

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