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J-GLOBAL ID:200903063246611596
アシルスルホンアミドの製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
五十部 穣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003020375
Publication number (International publication number):2003292482
Application date: Jan. 29, 2003
Publication date: Oct. 15, 2003
Summary:
【要約】【課題】 アシルスルホンアミドの収率のよい製造方法の提供。【解決手段】 R1-COXとR2-SO2NH2とをカリウム塩基存在下、反応させることによるR1-CONHSO2-R2で表されるアシルスルホンアミドの製造方法。[式中、Xは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、-OCO-OR3または-OCO-R3を表す。R1およびR2は、独立して、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールを表す。R3は、アルキルまたはR1を表す。]
Claim (excerpt):
R1-COXとR2-SO2NH2とをカリウム塩基存在下、反応させることによるR1-CONHSO2-R2で表されるアシルスルホンアミドの製造方法。[式中、Xは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、イミダゾリル、-OCO-OR3または-OCO-R3を表す。R1およびR2は、独立して有機基を表す。R3は、アルキルまたはR1を表す。]
IPC (4):
C07D207/337
, A61P 35/00
, A61P 43/00 111
, A61K 31/40
FI (4):
C07D207/337
, A61P 35/00
, A61P 43/00 111
, A61K 31/40
F-Term (9):
4C069AC07
, 4C069CC20
, 4C086AA03
, 4C086BC05
, 4C086MA01
, 4C086MA04
, 4C086NA14
, 4C086ZB26
, 4C086ZC20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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光学活性なアシルスルホンアミド類の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-208346
Applicant:塩野義製薬株式会社
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乳化組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-282418
Applicant:花王株式会社
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特開平2-188579
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アミジノ化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-307422
Applicant:藤沢薬品工業株式会社
-
アシルアミノアルデヒド誘導体およびその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-245957
Applicant:武田薬品工業株式会社
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セフェム誘導体の製造法及びその新規中間体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-051598
Applicant:明治製菓株式会社
-
特開平2-188579
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