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J-GLOBAL ID：200903063256006089

錯体形成基を有する多孔性中空糸膜及び該多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法

Inventor：
斎藤 恭一

About 斎藤 恭一

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佐藤 克行

About 佐藤 克行

, 
秋葉 光雄

About 秋葉 光雄


Applicant, Patent owner：
株式会社浅井ゲルマニウム研究所

About 株式会社浅井ゲルマニウム研究所


Agent (1)： 小林 雅人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006327003
Publication number (International publication number)：2007181816
Application date： Dec. 04, 2006
Publication date： Jul. 19, 2007
Summary：
【課題】廃棄物のゲルマニウムを回収することのできる多孔性中空糸膜、及びこの多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法を提供する。【解決手段】ポリエチレン製多孔性中空糸膜の表面に、放射線グラフト重合されたエポキシ基を含有する化合物の残基と、該残基と反応して式:又は、シス-1,2-ジオール構造で表される構造を含む残基を与える化合物とを反応させて得られる、キレート形成を有する多孔性中空糸膜及びこの多孔性中空糸膜と酸化ゲルマニウムを含有する水溶液を接触させて捕集した酸化ゲルマニウムを酸性溶液で溶出させて、酸化ゲルマニウムを回収する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
ポリエチレン製多孔性中空糸膜の表面に放射線グラフト重合されたエポキシ基を含有する化合物の残基と、該残基と反応して式
IPC (9)：
B01J 45/00 ,  B01J 47/12 ,  B01J 49/00 ,  B01J 20/26 ,  B01J 20/34 ,  C02F 1/42 ,  D06M 15/273 ,  D06M 14/28 ,  C01G 17/02
FI (10)：
B01J45/00 S ,  B01J47/12 Z ,  B01J49/00 Z ,  B01J20/26 E ,  B01J20/34 G ,  C02F1/42 H ,  B01J45/00 R ,  D06M15/273 ,  D06M14/28 ,  C01G17/02
F-Term (18)：
4D025AA09 ,  4D025AB33 ,  4D025BA17 ,  4D025BA27 ,  4G066AB12D ,  4G066AD11D ,  4G066AD15D ,  4G066BA03 ,  4G066CA46 ,  4G066DA08 ,  4G066FA31 ,  4G066GA11 ,  4L033AA05 ,  4L033AB02 ,  4L033AC15 ,  4L033BA46 ,  4L033CA21 ,  4L033DA06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (7)
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