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J-GLOBAL ID：200903063338125493

スタンパーの製造方法

Inventor：
森田 成二

About 森田 成二


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993308224
Publication number (International publication number)：1995161080
Application date： Dec. 08, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：
【要約】【目的】グルーブとランドの境界の側壁表面粗さを低減して、ノイズレベルが低く、かつ、耐久性に優れた光ディスク用のスタンパーの製造方法を提供する。【構成】原盤素材として合成石英を用い、CHF3 を腐食ガスとして、ガス圧0.5 Pa未満、自己バイアス電圧 500V以下で反応性イオンエッチングを行う。
Claim (excerpt)：
原盤にレジストを塗布する工程、レーザー光により前記レジストを露光する工程、現像処理を行う工程、反応性イオンエッチングにより前記原盤をエッチングする工程、及び残留した前記レジストを剥離する工程より成るスタンパーの製造方法において、前記原盤素材を合成石英とし、前記反応性イオンエッチングにおける腐食ガスをCHF3 、ガス圧を 0.5 Pa 未満、及び自己バイアス電圧を 500V以下とすることを特徴とするスタンパーの製造方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
  • 特開平4-241237
  • 特開平4-241237
  • 特開昭60-147946
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