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J-GLOBAL ID:200903063397959756

低摩擦摺動機構及びこれを用いた摺動システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 的場 基憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006255364
Publication number (International publication number):2008074947
Application date: Sep. 21, 2006
Publication date: Apr. 03, 2008
Summary:
【課題】摩擦係数が極めて小さくなる低摩擦摺動機構及びこれを用いた摺動システムを提供すること。【解決手段】摺動部材がなす2面間に相対滑りが発生し、摺動面はイオン性液体の存在により潤滑になっており、摺動部材のいずれか一方又は両方にDLCやダイヤモンドが被覆されている低摩擦摺動機構である。イオン性液体がカチオン成分とアニオン成分と極性物質とを含有して成り、該カチオン成分は、イミダゾリウム誘導体カチオン、ピリジニウム誘導体カチオン、ピロリジニウム誘導体カチオン、アンモニウム誘導体カチオンなどであり、該アニオン成分は、四フッ化ホウ素アニオン、トリフルオロメタンサルフォネートアニオン、フッ化水素アニオン、硫酸一水素アニオン、リン酸二水素アニオンなどである。 上記低摩擦摺動機構を適用した自動車用内燃機関、自動車用変速機である。【選択図】なし
Claim (excerpt):
摺動部材がなす2面間に相対滑りが発生する低摩擦摺動機構であって、 摺動面は、常温でイオンのみから成り且つ液状又はゲル状の塩であるイオン性液体の存在により潤滑になっており、摺動部材のいずれか一方又は両方にDLC及び/又はダイヤモンドが被覆されていることを特徴とする低摩擦摺動機構。
IPC (8):
C10M 105/70 ,  C10M 103/02 ,  F16J 1/01 ,  F16H 53/02 ,  F16H 55/06 ,  F02F 1/00 ,  F02F 3/10 ,  F02F 5/00
FI (8):
C10M105/70 ,  C10M103/02 Z ,  F16J1/01 ,  F16H53/02 B ,  F16H55/06 ,  F02F1/00 G ,  F02F3/10 ,  F02F5/00 F
F-Term (35):
3G024AA24 ,  3G024GA18 ,  3G024HA12 ,  3J011AA06 ,  3J011CA05 ,  3J011DA01 ,  3J011JA02 ,  3J011MA22 ,  3J011NA01 ,  3J011QA02 ,  3J011RA01 ,  3J011SE02 ,  3J011SE10 ,  3J030AC10 ,  3J030BA00 ,  3J030BC10 ,  3J030EA01 ,  3J030EC04 ,  3J030EC07 ,  3J044AA12 ,  3J044AA20 ,  3J044BA01 ,  3J044BB14 ,  3J044BB26 ,  3J044BC01 ,  3J044BC19 ,  3J044DA09 ,  3J044EA10 ,  4H104AA04A ,  4H104BE27A ,  4H104BE29A ,  4H104BE30A ,  4H104EA08A ,  4H104LA03 ,  4H104PA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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