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J-GLOBAL ID：200903063537832026

プラズマ発生装置

Inventor： 佐藤 岳彦 ,  芳賀 洋一 ,  中谷 達行 ,  木邑 達男
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  トーヨーエイテック株式会社
Agent (11)： 前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006220400
Publication number (International publication number)：2008047372
Application date： Aug. 11, 2006
Publication date： Feb. 28, 2008
Summary：

【課題】任意の場所で確実にかつ簡便にプラズマを発生させる装置を提供する。【解決手段】絶縁体または誘電体により被覆されたワイヤ状の導電性部材からなる第1の電極30とワイヤ状の導電性部材からなる第2の電極60とを、板20の上に略平行に配置する。第1の電極30に電源40によって交流電圧またはパルス電圧を印加する。すると、第1の電極30の周りにプラズマが発生する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

絶縁体または誘電体により被覆されたワイヤ状の導電性部材を備えた第1の電極と、 ワイヤ状の導電性部材からなる第2の電極と、 前記第1の電極に交流電圧またはパルス電圧を印加する電源と を備え、 前記第1の電極は、前記第2の電極に対して略平行に配置された部分を有しており、 前記第1の電極のうち、少なくとも前記第2の電極に対して略平行に配置された前記部分がプラズマを発生させる、プラズマ発生装置。

IPC (4)：

H05H 1/24 ,  C23C 16/50 ,  A61L 2/14 ,  B01J 19/08

FI (4)：

H05H1/24 ,  C23C16/50 ,  A61L2/14 ,  B01J19/08 E

F-Term (24)：

4C058AA12 ,  4C058AA15 ,  4C058BB06 ,  4C058KK06 ,  4C058KK21 ,  4C058KK26 ,  4C058KK42 ,  4G075AA30 ,  4G075AA37 ,  4G075BA10 ,  4G075BC01 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EC21 ,  4G075ED20 ,  4G075EE07 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-379540   Applicant：松下電器産業株式会社
• グロー放電プラズマ処理方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-133716   Applicant：積水化学工業株式会社
• プラズマ殺菌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-342223   Applicant：株式会社東芝
• 管用プラズマ滅菌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-010770   Applicant：株式会社東芝
• 管用滅菌装置および滅菌方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-204879   Applicant：株式会社東芝