Pat
J-GLOBAL ID:200903063563593986

洗浄料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000315023
Publication number (International publication number):2002121120
Application date: Oct. 16, 2000
Publication date: Apr. 23, 2002
Summary:
【要約】【課題】 洗浄工程と後処理工程の2つの工程を取らなくても、洗浄性としっとり感、なめらかさに優れる洗浄料を提供する。【解決手段】 3-アルキル(C10〜20)オキシ-2-ヒドロキシプロピルアルギニン及び/又はその塩を洗浄料に含有させる。
Claim (excerpt):
3-アルキル(C10〜20)オキシ-2-ヒドロキシプロピルアルギニン及び/又はその塩を含有する、洗浄料。
IPC (3):
A61K 7/075 ,  C11D 1/50 ,  C11D 3/37
FI (3):
A61K 7/075 ,  C11D 1/50 ,  C11D 3/37
F-Term (42):
4C083AB102 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC112 ,  4C083AC182 ,  4C083AC392 ,  4C083AC472 ,  4C083AC642 ,  4C083AC661 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AD132 ,  4C083AD151 ,  4C083AD162 ,  4C083AD211 ,  4C083AD352 ,  4C083AD411 ,  4C083AD431 ,  4C083AD432 ,  4C083AD441 ,  4C083AD442 ,  4C083AD532 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083EE28 ,  4H003AB31 ,  4H003AD04 ,  4H003AE02 ,  4H003AE09 ,  4H003DA02 ,  4H003EA19 ,  4H003EB04 ,  4H003EB06 ,  4H003EB09 ,  4H003EB13 ,  4H003EB37 ,  4H003EB41 ,  4H003EB42 ,  4H003EB46 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
  • 化粧料組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-025911   Applicant:味の素株式会社
  • 化粧料組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-360289   Applicant:味の素株式会社
  • 化粧料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-024731   Applicant:味の素株式会社
Show all
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 発明協会公開技報98-1163号, 19980302
  • 発明協会公開技報98-2083号, 19980316
  • 発明協会公開技報98-2354号, 19980401
Show all

Return to Previous Page