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J-GLOBAL ID:200903063637625516
強誘電体記憶装置およびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 隆久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995267274
Publication number (International publication number):1997116107
Application date: Oct. 16, 1995
Publication date: May. 02, 1997
Summary:
【要約】【課題】 メモリセルが1個の強誘電体キャパシタだけで構成された大容量かつ高集積可能な強誘電体記憶装置を実現する。【解決手段】 列状に配線されたそれぞれの主ビット線MBLN、MBLN+1が、選択トランジスタSTN、STN+1を介して、複数の副ビット線の中から任意の副ビット線SBLN、SBLN+1に接続され、上記副ビット線と行状に配線された複数のワード線WL1〜WLMが交差する格子位置にそれぞれ1個の強誘電体キャパシタよりなるメモリーセルC1,N 〜C1,N+1 が配置され、上記強誘電体キャパシタの一方の電極が上記副ビット線に、他の一方の電極が上記ワード線に他の一方の電極が上記ワード線に接続されている。
Claim (excerpt):
列状に配線されたそれぞれの主ビット線が接続手段を介して複数の副ビット線に接続され、上記副ビット線と行状に配線された複数のワード線が交差する格子位置にそれぞれ1個の強誘電体キャパシタよりなるメモリセルが配置され、それぞれの強誘電体キャパシタの一方の電極が上記副ビット線に,他の一方の電極が上記ワード線に接続され、上記強誘電体キャパシタの分極方向によって、互いに逆相の第1のデータまたは第2のデータのどちらかのデータを記憶する強誘電体記憶装置。
IPC (8):
H01L 27/10 451
, G11C 11/22
, G11C 14/00
, H01L 27/108
, H01L 21/8242
, H01L 21/8247
, H01L 29/788
, H01L 29/792
FI (5):
H01L 27/10 451
, G11C 11/22
, G11C 11/34 352 A
, H01L 27/10 651
, H01L 29/78 371
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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半導体記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-252326
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-051273
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-282008
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平4-078098
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半導体記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-064630
Applicant:川崎製鉄株式会社
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半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-018284
Applicant:松下電子工業株式会社
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