プラズマプロセス装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：深見久郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001174357
Publication number (International publication number)：2002367968
Application date： Jun. 08, 2001
Publication date： Dec. 20, 2002
Summary：

【要約】【課題】大面積の方形基板に対しても、均一なプラズマ処理が可能であり、単純な構造で装置全体のサイズを可及的に小さくでき、さらにプラズマの制御が容易なプラズマプロセス装置を提供する。【解決手段】高周波発振器40で発生された高周波電力を処理室2に導入する折り返し導波管20が、高周波発振器40に接続された方形導波部20fと、高周波導入窓4上に固設された方形放射部20cと、高周波電力の進行経路において方形導波部20fおよび方形放射部20c間に位置しかつ途中に折り返し構造を少なくとも1つ有するテーパ導波部20a、20bと、テーパ導波部20bの下壁と方形放射部20cの上壁との間に空間を生じさせるように設けられた最終折り返し部20eとを有している。

Claim (excerpt)：

壁面の一部が誘電体からなる高周波導入窓で構成され、プラズマを用いて処理を行なう処理室と、高周波発振器と、前記高周波発振器で発生させた高周波電力を前記高周波導入窓を介して前記処理室に導入する導波管と、前記高周波電力によりプラズマ状態にされる反応ガスを前記処理室に供給するガス供給部材とを備えたプラズマプロセス装置において、前記導波管は、前記高周波発振器に接続された方形導波部と、前記高周波導入窓上部に固設された方形放射部と、前記高周波電力の進行経路において前記方形導波部および前記方形放射部間に位置しかつ途中に折り返し構造を少なくとも1つ有するテーパ導波部と、前記テーパ導波部の導波管下壁と前記方形放射部の導波管上壁との間に空間を生じさせるように前記テーパ導波部に対して前記方形放射部を折り返した部分に位置する折り曲げ導波部とを有することを特徴とする、プラズマプロセス装置。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , B01J 19/08 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H05H 1/46

FI (6)：

B01J 19/08 H , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H05H 1/46 B , H05H 1/46 C , H01L 21/302 B

F-Term (17)：

4G075AA30 , 4G075BC02 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075BD14 , 4G075CA26 , 4G075CA42 , 4G075CA47 , 4G075EE02 , 5F004AA01 , 5F004BA14 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EH03 , 5F045EH17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-020460
マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-312418 Applicant：日本電気株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-358896 Applicant：株式会社ダイヘン

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