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J-GLOBAL ID:200903063776924781

有機金属化学蒸着用の銅薄膜形成用溶液原料及びこれから作られた銅薄膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須田 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999014740
Publication number (International publication number):2000265273
Application date: Jan. 22, 1999
Publication date: Sep. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高い成膜速度が得られ、基板上で効率よく分解して揮発性が高く、下地膜との密着性に優れる。【解決手段】 銅+1(アリルトリメチルシラン)(ヘキサフルオロアセチルアセトン)のような一価の銅金属を含む有機金属銅化合物に、β-ジケトンの水和物、トリフルオロアセトン、トリフルオロアセトンの水和物、ヘキサフルオロアセトン、ヘキサフルオロアセトンの水和物、β-ジケトンのヒドロキシ化合物、β-ジケトンのヒドロキシ化合物の水和物及びペンチンの水和物からなる群より選ばれた1種又は2種以上の第1化合物を添加して構成される。また上記一価の銅金属を含む有機金属銅化合物に、アルキルシラン、アルキルシランの水和物、アルコキシシラン、アルコキシシランの水和物のような第2化合物、及び/又はアセチレン、アルケンの各誘導体の第3化合物を添加して構成される。
Claim (excerpt):
一価の銅金属を含む有機金属銅化合物に、β-ジケトンの水和物、トリフルオロアセトン、トリフルオロアセトンの水和物、ヘキサフルオロアセトン、ヘキサフルオロアセトンの水和物、β-ジケトンのヒドロキシ化合物、β-ジケトンのヒドロキシ化合物の水和物及びペンチンの水和物からなる群より選ばれた1種又は2種以上の第1化合物を添加してなる有機金属化学蒸着用の銅薄膜形成用溶液原料。
IPC (2):
C23C 16/18 ,  H01L 21/285
FI (2):
C23C 16/18 ,  H01L 21/285 C
F-Term (13):
4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030BA01 ,  4K030CA04 ,  4K030HA04 ,  4K030JA06 ,  4K030LA15 ,  4M104BB04 ,  4M104DD45 ,  4M104HH08 ,  4M104HH20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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