Pat
J-GLOBAL ID：200903063799862007

水処理装置および水処理方法

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
坂田 和之

About 坂田 和之

, 
中條 数美

About 中條 数美


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (2)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005266631
Publication number (International publication number)：2007075723
Application date： Sep. 14, 2005
Publication date： Mar. 29, 2007
Summary：
【課題】 炭に繁殖する微生物の活性を高め、後工程の膜装置による有機物負荷等を低減する。【解決手段】 マイクロナノバブル発生槽6で発生されたマイクロナノバブルを含有する水23を、炭15が充填され且つ散気管12が配置された炭水槽11に導入して処理し、その後に膜装置21に導入して処理する。こうして、炭15に繁殖した微生物の活性をマイクロナノバブルによって増加させ、水中の有機物の分解処理能力を格段に増加させる。したがって、膜装置21の有機物負荷を低減して有機物による閉塞現象を防止できる。また、マイクロナノバブル発生槽6には、マイクロナノバブル発生助剤として微量のアルコール類や塩類を添加して、上記マイクロナノバブルの発生率を向上させる。その際に、上記アルコール類や塩類は、炭水槽11で簡単に分解されると共に、後段の膜装置21で除去し易いため、膜装置21に対して悪影響を及ぼすことはない。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
導入された水を、膜を用いて処理する膜装置と、 上記膜装置に導入される水の前処理を行う前処理装置と を備え、 上記前処理装置は、 ポリ塩化ビニリデン充填物が充填されると共に、外部から水が導入される原水槽と、 マイクロバブルとナノバブルとの両方を含むマイクロナノバブルを発生するマイクロナノバブル発生機を有して、上記原水槽から導入された水中に上記マイクロナノバブルを含有させるマイクロナノバブル発生槽と、 上記マイクロナノバブル発生槽内の水の一部を上記原水槽に返送する水返送装置と、 撹拌装置を有すると共に、炭または合成炭が充填されて、上記マイクロナノバブル発生槽から導入された水を処理する炭水槽と を含むこと特徴とする水処理装置。
IPC (11)：
C02F 1/44 ,  B01D 61/04 ,  B01D 61/16 ,  C02F 3/20 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/32 ,  C02F 9/00
FI (21)：
C02F1/44 K ,  C02F1/44 D ,  B01D61/04 ,  B01D61/16 ,  C02F3/20 Z ,  C02F3/06 ,  C02F3/10 Z ,  C02F1/28 F ,  C02F1/72 101 ,  C02F1/30 ,  C02F1/32 ,  C02F9/00 501B ,  C02F9/00 502F ,  C02F9/00 502G ,  C02F9/00 502H ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 502R ,  C02F9/00 503A ,  C02F9/00 503C ,  C02F9/00 504A ,  C02F9/00 504E
F-Term (75)：
4D003AA01 ,  4D003AB01 ,  4D003AB04 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003BA03 ,  4D003CA02 ,  4D003CA10 ,  4D003DA20 ,  4D003EA14 ,  4D003EA25 ,  4D003EA30 ,  4D003FA01 ,  4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006JA71 ,  4D006KA01 ,  4D006KA72 ,  4D006KB04 ,  4D006KB12 ,  4D006KB22 ,  4D006KB30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB07 ,  4D006PB08 ,  4D024AA01 ,  4D024AA04 ,  4D024AB04 ,  4D024BA02 ,  4D024BA03 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024CA01 ,  4D024DB05 ,  4D024DB15 ,  4D024DB29 ,  4D024DB30 ,  4D029AA01 ,  4D029AB05 ,  4D029AB06 ,  4D037AA01 ,  4D037AA08 ,  4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB02 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037BB09 ,  4D037CA03 ,  4D037CA07 ,  4D037CA11 ,  4D050AA01 ,  4D050AA08 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050BC04 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050CA09 ,  4D050CA17 ,  4D624AA01 ,  4D624AA04 ,  4D624AB04 ,  4D624BA02 ,  4D624BA03 ,  4D624BB01 ,  4D624BC01 ,  4D624CA01 ,  4D624DB05 ,  4D624DB15 ,  4D624DB29 ,  4D624DB30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-288963   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
Cited by examiner (12)
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